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在氧化染色整個流程中，因（yīn）為氧化工藝原因造成（chéng）染色不良是比較普遍的（de）。氧化膜的膜厚和孔隙均勻（yún）一（yī）致是染色（sè）時獲得均勻一致顏色（sè）的（de）前提和基（jī）礎，為獲得均勻一致的氧化（huà）膜，保證足（zú）夠的循環量（liàng），冷卻量，保證良好的導電性是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩定性。氧化溫度，控製在20℃左右，氧化槽液的溫度對染色的影響非常顯著，過低（dī）的溫（wēn）度致使氧化膜（mó）的膜孔致（zhì）密（mì），染色速度顯著減緩；溫度過高，氧化膜蔬鬆，容易粉化，不利於染色的（de）控製，氧（yǎng）化槽的溫（wēn）差（chà）變化應在2℃以內為宜（yí）。硫（liú）酸濃度，控製在180—200g／l。稍高的硫酸濃度（dù）可促進氧化膜的溶解反應加快，利於孔隙的擴張，更易於染色；鋁離子濃度，控製在5—15 g／l。鋁離子小於5g／l，生成（chéng）的氧化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子（zǐ）大於15g／l時，氧化膜的（de）均勻性受到影響，容易出現不規則的膜層。
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